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靶材是什么材料？靶材是制備薄膜的主要材料之一，是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料，主要使用在微電子，顯示器，存儲(chǔ)器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于尖端技術(shù)的各種薄膜材料。下面來了解下靶材的用途知識(shí)。

靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，是制造芯片過程中不可缺少的材料。根據(jù)不同材質(zhì)靶材可劃分為金屬靶材，陶瓷靶材，合金靶材。根據(jù)不同應(yīng)用方向靶材可劃分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)靶材、磁記錄靶材、光記錄靶材。下面來了解下靶材的性能和指標(biāo)。

濺射靶材是什么？濺射靶材是目標(biāo)材料，是一種用濺射沉積或薄膜沉積技術(shù)制造薄膜的材料。濺射靶材可用于微電子領(lǐng)域、顯示器、存儲(chǔ)用及高溫耐蝕、耐磨材料、裝飾用品等行業(yè)。濺射靶材工作原理是什么？下面一起來了解下。

ITO靶材是什么材料？ITO靶材是濺射靶材中的一種，全稱為氧化銦錫靶材，是氧化銦和氧化錫的混合物。在所有其他透明導(dǎo)電氧化物中，氧化銦錫因其卓越的導(dǎo)電性、光學(xué)透明度和高穩(wěn)定性而被廣泛選擇。在光電子行業(yè)，它主要用于覆蓋半導(dǎo)體傳感器布線，并制造各種光電設(shè)備和組件，如液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管、等離子顯示器和觸摸屏。

靶材就是用于物理鍍膜中的濺鍍，靶材種類比較多，有金屬類、合金類、氧化物類等等。金屬靶材應(yīng)用主要包括平板顯示器、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體等領(lǐng)域。常見金屬靶材的種類有鎂Mg、錳Mn、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫Sn、鋁AL等。

ITO靶材是一種貴金屬材料，是在高溫氣氛燒結(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。ITO靶材主要有四種成型方法，分別是真空熱壓法、熱等靜壓法、常壓燒結(jié)法、冷等靜壓法。下面就來了解下ITO濺射靶材的制作方法以及ITO濺射靶材生產(chǎn)難點(diǎn)。

靶材就是真空電鍍材料爐里的靶，是電鍍材料的一種，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、存儲(chǔ)用的硬盤、平面顯示器等的布線和制備薄膜用的貴金屬濺射靶材材料。靶材有金屬類、合金類、氧化物類等等，那么濺射靶材是否屬于稀缺資源？貴金屬靶材可以回收再利用嗎？下面來了解下。

多弧離子鍍技術(shù)是離子鍍技術(shù)的一種改進(jìn)方法，是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點(diǎn)放出的陰極物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。下面來了解下多弧離子反應(yīng)鍍膜設(shè)備可鍍色彩，各種靶材對(duì)應(yīng)的PVD鍍膜顏色。

靶材在使用過程中，其表面逐漸會(huì)產(chǎn)生一種黑色顆粒狀物質(zhì)，這就是靶材中毒。靶材中毒的主要原因是介質(zhì)的合成速度大于濺射產(chǎn)率，導(dǎo)致導(dǎo)體靶材失去導(dǎo)電能力。如果要消除目標(biāo)中毒，應(yīng)使用中頻電源或射頻電源代替直流電源。減少反應(yīng)氣體的吸入量，增加濺射功率。